Данный сайт использует файлы cookie. Продолжая пользоваться сайтом вы соглашаетесь с этим.
Вариант 4
Описание работы:
Задача №1.
Имеется два образца собственного полупроводникового материала (или германия Ge
или кремния Si).
В первый образец вводят примесь бора (В), а во второй образец - примесь сурьмы (Sb).
Для каждого из двух образцов:
1.1. Определить положение уровня Ферми и построить энергетическую (или потенциальную) диаграмму, приняв за базовую величину ширину запрещенной зоны полупроводника.
1.2. Рассчитать коэффициенты диффузии.
1.3. Рассчитать удельное сопротивление собственных и легированных полупроводников.
Задача №2.
На основе указанных выше легированных полупроводников создан технологическим путем электрический p-n-переход.
2.1. Определить высоту потенциального барьера p-n-перехода dф0
2.2. Определить толщину p-n-перехода l0,ln,lp
2.3. Построить три потенциальных диаграммы: для состояния равновесия U=0, для прямого смещения U=Uпр и для обратного смещения перехода U=Uобр.
Задача №3.
Образованный электрический p-n-переход используется в качестве выпрямительного контакта (диода).
3.1. Определить тепловой ток (обратный ток насыщения)
3.2. Построить прямую ветвь ВАХ перехода
3.3. Определить дифференциальное сопротивление и сопротивление постоянному току для рабочего режима.
3.4. Определить барьерную емкость перехода при нулевом смещении U=0, а также построить вольт-фарадную характеристику.
Дано:
№ ПП мат конц. атомов бора(B) pp NA конц. атомов сурьмы(Sb) nn Nd площ. перех S T диффуз. Длина напряж смещ
Ln Lp Uпр Uобр
м-3 м-3 м2 К м м В В
4 Si 8E 22 1,8E 22 1,00E-06 300 7E-05 5E-05 0,11 1
Т=300К ширина запр.зоны (dEm) собств. Конц. Нос. Заряда (ni) подвижность электронов (mn) подвиж. Дырок ( mр) относ. диэл.прониц (e)
эВ м-3 м2/В*с м2/В*с
Ge 0,66 2,4E 19 0,39 0,19 16
Si 1,12 1,45E 16 0,135 0,048 12
Примерный внешний вид работы:
Тип работы: Задание